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光刻機芯片冷卻循環系統

分類:行業新聞 501

光刻機芯片冷卻循環系統-無錫冠亞恒溫制冷

無錫冠亞恒溫制冷(LNEYA)的液體溫度控制技術,主要用于半導體測試中的溫度測試模擬,具有寬溫度定向和高溫升降,溫度范圍-85℃~250℃,適合各種測試要求。無錫冠亞不斷探索和研究元件測試系統,致力于解決電子元器件中溫度控制滯后的問題,冷卻技術可直接從300℃進行冷卻。該產品適用于電子元器件的jing確溫度控制需求。
半導體測試水冷機廣泛應用于集成電路,芯片,電子,半導體,晶振,石英晶振,低溫泵,液氦制冷機,液氦壓縮機,飛輪儲能、電子制造、石墨、超聲波冷卻、印刷等工業生產,半導體冷水機它能控制現代工業機械化生產所要求溫度,從而大大提高了生產效率及產品質量。
半導體測試水冷機在用于惡劣環境的半導體電子元件的制造中,IC封裝組裝和工程和生產的測試階段包括在溫度(-85℃至+ 250℃)下的電子冷熱測試和其它環境測試模擬。
主要優勢:
1.溫控精度:±1℃;
2.實時監測待測元件真實溫度;
3.針對PCB電路板上眾多元器件中的某一單個IC(模塊),可單獨進行高低溫沖擊,而不影響周邊其它器件;
5.對測試機平臺上的IC進行溫度循環/沖擊;
6.對整塊集成電路板提供準確且快速的環境溫度。

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